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微細加工技術雜志

主辦單位:中國電子科技集團公司第48研究所
主管單位:信息產業部

美章網 雙月刊 雜志介紹(非官網)

微細加工技術雜志基本信息 部級期刊

《微細加工技術》由伍三忠擔任主編,由中國電子科技集團公司第48研究所主辦的一本電子類部級期刊。該刊創刊于1983年。主要刊登電子學科方面有創見的學術論文,介紹有特色的科研成果,探討有新意的學術觀點提供交流平臺,擴大國內外同行學術交流。本刊為雙月刊,A4開本,歡迎廣大讀者訂閱或投稿。

基本信息:
ISSN:1003-8213
CN:43-1140/TN
期刊類別:電子
郵發代號:-
出版信息:
創刊時間:1983
出版地區:湖南
出版周期:雙月刊
出版語言:中文
主編:伍三忠
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微細加工技術雜志介紹

《微細加工技術》是一本由信息產業部主管,中國電子科技集團公司第48研究所主辦的面向國內外公開發行的電子類期刊,該刊主要報道電子相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選部級期刊。《微細加工技術》主要內容欄目有綜述、電子束技術、離子束技術、光子束技術、薄膜技術、微機械加工技術、納米技術。

《微細加工技術》主要發文機構有:中國科學院(發文量192篇),該機構主要研究主題為“光刻;電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;掩?!?;上海交通大學(發文量129篇),該機構主要研究主題為“微機電系統;電系統;機電系統;MEMS;刻蝕”;清華大學(發文量60篇),該機構主要研究主題為“微細;光刻;微細加工;離子束;聚焦離子束”。

《微細加工技術》主要發文主題有光刻、離子注入、電子束曝光、刻蝕、半導體、電路、微細、集成電路、微細加工、曝光機。其中又以”光刻(151篇)”居于榜首,發文量第二的是“離子注入”(105篇),發文量第三的是“電子束曝光”(79篇),發文主題最少的是“曝光機”,僅發文57篇。

微細加工技術影響力及榮譽

微細加工技術投稿注意事項

1、來稿要求:

本刊歡迎下列來稿:電子及相關學科領域的研究方面的論著,反映國內外電子學術動態的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿,以及有指導意義的電子書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性,內容翔實,簡明扼要,重點突出,文字數據務求準確,層次清楚,標點符號準確,圖表規范,書寫規范。本刊不接受已公開發表的文章,嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件,編輯部將一律退稿,來稿確保不涉及保密、署名無爭議等,文責自負。

2、作者簡介:

述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等,字數以 100~300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜,格式為“.jpg”,像素不得低于 300 dpi。

3、文題:

文題力求簡明、醒目,反映文稿主題,中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題,中英文文題含義應一致。

4、圖表:

文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻中的圖表。圖表力求簡明,設計應科學,避免與正文重復。凡能用少量文字說明的數據資料盡量不用圖表。正文與表中數據應認真核對,準確無誤,表內數據同一指標的有效位數應一致。

微細加工技術數據統計

  • 總發文量:-
  • 總被引量:758
  • 平均引文率:-
  • H指數:14
  • 期刊他引率:1
主要發文機構分析
機構名稱 發文量 主要研究主題
中國科學院 192 光刻;電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;掩模
上海交通大學 129 微機電系統;電系統;機電系統;MEMS;刻蝕
清華大學 60 微細;光刻;微細加工;離子束;聚焦離子束
中國科學技術大學 47 刻蝕;離子束;離子束刻蝕;光刻;衍射
電子工業部 46 離子注入;注入機;離子注入機;半導體;電路
中國科學院微電子研究所 38 光刻;掩模;X射線光刻;電子束曝光;分辨率
中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 34 光柵;MEMS;刻蝕;光刻;傳感
山東大學 29 電子束;電子束曝光;曝光機;電子束光刻;電子束曝光機
山東工業大學 28 電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;電子束;電路
華中理工大學 26 刻蝕;濺射;半導體;等離子體;離子束
主要資助項目分析
資助項目 涉及文獻
國家自然科學基金 256
國家高技術研究發展計劃 65
國家重點基礎研究發展計劃 54
國家教育部博士點基金 17
國家重點實驗室開放基金 15
山東省自然科學基金 13
中國科學院知識創新工程 11
中國博士后科學基金 10
上海市自然科學基金 8
中國科學院知識創新工程重要方向項目 8
年度參考文獻報告

微細加工技術文章摘錄

  • 電子束曝光控制軟件系統設計與實現 作者:魏淑華; 宋志; 張今朝; 韓立
  • 中能離子注入機用靜電吸盤 作者:肖仁耀; 孫雪平
  • 激光聚焦掃描扇區掩模制作光電碼盤新方法 作者:趙立新; 胡松; 王肇志; 羅正全
  • ICP刻蝕技術在808 nm激光器中的應用 作者:王致遠
  • 柔性襯底上六噻吩薄膜的有序生長 作者:沐俊應; 陳振興; 梁氏秋水
  • 藍寶石襯底上二維亞波長增透結構的設計分析 作者:徐啟遠; 劉正堂; 李陽平; 閆峰
  • 等離子輔助化學氣相沉積制備可延展的硅薄膜 作者:韓喻; 謝凱
  • Zn1-xCoxO納米復合薄膜的磁特性 作者:任妙娟; 唐海馬; 趙鵬; 張軍
  • 藍寶石襯底的化學機械拋光工藝研究 作者:趙之雯
  • 反相微乳法制備鋯錳摻雜六鋁酸鹽催化劑的研究 作者:王苑娜; 余倩; 余林; 張綺旎; 孫明; 凌偉軍; 江東權; 莫春生
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