中國專利與商標雜志介紹

《中國專利與商標》是一本由中國專利與商標雜志社主管，中國專利與商標雜志社主辦的面向國內外公開發(fā)行的政法類期刊，該刊主要報道政法相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選部級期刊。影響因子為0.03。《中國專利與商標》主要內容欄目有業(yè)內信息、專題文章、專利、商標、商業(yè)秘密、知識産權制度、視角。

《中國專利與商標》主要發(fā)文機構有：國家知識產(chǎn)權局（發(fā)文量48篇），該機構主要研究主題為“專利法；專利權；利權；審查；侵權”；北京市第一中級人民法院（發(fā)文量46篇），該機構主要研究主題為“商標；糾紛；行政；糾紛案；法院”；北京市高級人民法院（發(fā)文量40篇），該機構主要研究主題為“民法；人民法院；法院；人民；高級人民法院”。

《中國專利與商標》主要發(fā)文主題有商標、法院、知識產(chǎn)權、民法、人民法院、產(chǎn)權、法律、侵權、專利法、行政。其中又以”商標（379篇）”居于榜首，發(fā)文量第二的是“法院”（358篇），發(fā)文量第三的是“知識產(chǎn)權”（348篇），發(fā)文主題最少的是“行政”，僅發(fā)文170篇。

中國專利與商標影響力及榮譽

• 維普收錄(中)
• 國家圖書館館藏
• 上海圖書館館藏

中國專利與商標投稿注意事項

1、來稿要求：

本刊歡迎下列來稿：政法及相關學科領域的研究方面的論著，反映國內外政法學術動態(tài)的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿，以及有指導意義的政法書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性，內容翔實，簡明扼要，重點突出，文字數(shù)據(jù)務求準確，層次清楚，標點符號準確，圖表規(guī)范，書寫規(guī)范。本刊不接受已公開發(fā)表的文章，嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件，編輯部將一律退稿，來稿確保不涉及保密、署名無爭議等，文責自負。

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述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等，字數(shù)以 100～300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜，格式為“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

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文題力求簡明、醒目，反映文稿主題，中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題，中英文文題含義應一致。

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