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應用光譜學評論

Applied Spectroscopy Reviews 出版商:Taylor and Francis Ltd. ISSN:0570-4928 E-ISSN:1520-569X

首頁 化學 期刊介紹(非官網)

應用光譜學評論基本信息 SCIE

應用光譜學評論是一本在化學領域享有國際盛譽的優秀雜志,其國際簡稱為APPL SPECTROSC REV,全稱《Applied Spectroscopy Reviews》,由知名出版機構Taylor and Francis Ltd.主辦并發行。自1968年創刊以來,該雜志一直致力于發表化學領域的專業學術論文,展現獨特且具有前瞻性的科研成果。它不僅是學術交流的重要平臺,更促進了國內外同行間的深入研討與思想碰撞,為化學的發展做出了卓越貢獻。

基本信息:
ISSN:0570-4928
E-ISSN:1520-569X
大類學科:化學
研究方向:工程技術 - 光譜學
出版信息:
創刊時間:1968
出版地區:UNITED STATES
出版周期:Tri-annual
出版語言:English
評價信息:
年發文量:27
中科院分區:2區
JCR分區:Q1
CiteScore:13.8

應用光譜學評論雜志介紹

應用光譜學評論(Applied Spectroscopy Reviews)(國際簡稱:APPL SPECTROSC REV)是一本專注于化學領域的學術期刊。該期刊由知名的科學出版機構Taylor and Francis Ltd.出版。自1968年創刊以來,該雜志一直致力于推動SPECTROSCOPY領域的知識創新和學術交流。雜志的內容豐富,覆蓋了化學的多個子領域,致力于發表化學各子領域的高質量研究。雜志的審稿標準嚴格,并通過同行評審流程確保發表的文章達到學術界的標準。此外,作為化學領域的研究者和專業人士,應用光譜學評論是一個不可或缺的資源,它不僅提供了最新的科研信息,也是了解該領域最新研究動態和趨勢的重要窗口。

近年來,應用光譜學評論的發文機構中,以下機構表現突出,發文數量位于前列:SICHUAN UNIVERSITY(發文量9篇)、PUSAN NATIONAL UNIVERSITY(發文量8篇)、CHANGWON NATIONAL UNIVERSITY(發文量6篇)、UNIVERSITY OF SHEFFIELD(發文量5篇)、JILIN UNIVERSITY(發文量4篇)、LANCASTER UNIVERSITY(發文量4篇)、MANIPAL ACADEMY OF HIGHER EDUCATION (MAHE)(發文量4篇)。這些數據反映了上述機構在化學領域的研究活躍度和學術貢獻。

期刊CiteScore指數(2024年最新版)

CiteScore排名

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
13.8 0.868 2.063

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:Instrumentation

分區

Q1

排名

5 / 141

百分位

96%

13.8 0.868 2.063

學科類別

大類:Physics and Astronomy 小類:Spectroscopy

分區

Q1

排名

6 / 76

百分位

92%

CiteScore: 通過計算期刊在特定時間內發表的論文的平均引用次數來衡量期刊的影響力。CiteScore作為Scopus中一系列指標的一部分,與其他如SNIP(源文檔標準化影響)和SJR(SCImago 雜志排名)等指標一起,為期刊評價提供了多維度的視角。

中科院分區

中科院SCI期刊分區2023年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
化學 2區
SPECTROSCOPY 光譜學
1區
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表
2區
中科院分區表: 旨在評估期刊的學術影響力,為學術投稿提供參考,為科研管理部門的宏觀判斷提供支撐。中科院分區表分區覆蓋廣泛,對JCR(Journal Citation Reports)的自然科學版(SCIE)和社會科學版(SSCI)的全部期刊進行分區,并提供大、小類兩種學科分類體系的分區數據,幫助科研人員在特定學科領域內進行更精確的比較和選擇。

WOS(JCR)分區(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q1 10 / 76

87.5%

學科:SPECTROSCOPY SCIE Q1 4 / 44

92%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 30 / 76

61.18%

學科:SPECTROSCOPY SCIE Q2 18 / 44

60.23%

期刊近年評價數據統計

中科院分區表

影響因子和CiteScore

應用光譜學評論投稿注意事項

應用光譜學評論(Applied Spectroscopy Reviews)是由Taylor and Francis Ltd.出版商出版的一本專業學術雜志,收稿方向涵蓋化學全領域,在行業領域中學術影響力很大,作為行業內的優秀期刊,應用光譜學評論在學術界享有極高的關注度和專業認可度,是SPECTROSCOPY研究者發表重要學術成果的首選平臺。盡管審稿速度 約1.0個月 ,需要耐心等待,但這也是對學術質量的嚴格把控和尊重。應用光譜學評論近期未被列入任何國際期刊預警名單,其學術嚴謹性和出版標準得到了國際學術界的廣泛認可。對于追求在頂級期刊發表研究成果的學者,我們強烈推薦關注并投稿至應用光譜學評論。誠邀您將您的突破性研究成果投稿至應用光譜學評論,與全球科研同仁共享您的學術洞見,并推動SPECTROSCOPY的進步。

作者在撰寫學術論文時,作者應嚴格遵守以下準則,以提升論文的學術質量和增加其被接受的可能性:

1、科學性與創新性:確保研究具有明確的科學依據,并且提供領域內的新見解或方法。

2、邏輯性:論文結構應清晰,論點連貫,使讀者能夠順暢地理解作者的思考過程。

3、語言準確性:使用規范的科學術語和表達方式,避免語法錯誤和拼寫錯誤,確保語言的專業性和準確性。

4、數據精確性:所有數據必須經過嚴格校驗,包括表格、圖表和計量單位,以確保研究結果的準確性和可信度。

5、文獻引用:優先引用高質量、時效性強的文獻,特別是目標期刊發表的相關文章,這有助于提升論文的學術權威性。

6、避免一稿多投:遵守學術規范,不得同時向多個期刊提交同一篇論文,以免觸犯著作權法并損害個人學術聲譽。

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若用戶需要出版服務,請聯系出版商:TAYLOR & FRANCIS INC, 325 CHESTNUT ST, SUITE 800, PHILADELPHIA, USA, PA, 19106。

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